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电子束光刻机处理大尺寸版图时，会把整体图形拆分为多个独立写场完成分步曝光，再通过载台移动实现图形拼接还原，拼接错位就是不同写场衔接位置出现偏移、缝隙或者图形重叠的现象，会直接造成微纳结构断线、尺寸偏移，让整体图形和原始设计出现明显偏差，是大尺寸图形加工过程中十分容易碰到的问题中国光学期...。

造成拼接错位的诱因来源比较多元，载台运动系统是首要影响因素，载台移动过程中受到环境温度波动会产生微量热胀冷缩，即使微小的形变，放到纳米级加工尺度上就会被放大成为肉眼可观测的拼接偏差；载台位置反馈元器件出现状态衰减，也会造成每一次步进移动的实际位移和指令输出存在差值，多次累积之后错位现象会愈发明显。

外部环境扰动同样不可忽视，设备周边存在的低频振动会传递至整机，曝光过程中振动干扰电子束的偏转轨迹，同时干扰载台定位，使得相邻写场之间无法准确对齐。电子光学系统的束斑状态变化也会带来影响，不同写场扫描阶段束斑出现微小偏移、畸变，即便载台定位完全准确，衔接处依旧会出现图形错位。另外版图拆分处理不当，写场边界图形布局不合理，也会加剧拼接位置的缺陷表现。不同设备的载台控制精度、抗振动设计、温度管控能力存在区别，出现拼接错位的触发条件与表现程度也会存在差异。