多信号协同分析系统 —— 扫描电子显微探测机理

多信号协同分析系统依托扫描电子束激发样品产生的各类特征信号，实现微观形貌、元素信息一体化表征，是微纳工艺质控、失效分析不可或缺的核心设备。

微纳形貌表征系统 —— 扫描电子显微成像原理

微纳形貌表征系统是面向材料、半导体与微纳加工领域的高端分析设备，依靠高能电子束与固体样品表面的相互作用获取微观信息，摆脱光学显微镜可见光波长带来的衍射限制，能够实现纳米尺度的表面形貌观测。

扫描电镜进行大视场宽范围扫描成像时，会伴随图像几何畸变以及画面内的衬度渐变现象。

扫描电镜采用低加速电压成像模式，是观测浅表层形貌、减少衬底内部信号干扰的常用手段，但该工况下极易出现二次电子信号信噪比衰减的问题。

扫描电镜在高倍连续观测导热性能偏弱的样品时，电子束持续辐照带来的局部热量累积会引发图像缓慢漂移、轮廓形变，适合高分子薄膜、绝缘有机样品、多孔软质材料这类热敏感试样的观测场景。

扫描电镜依靠高能电子与样品相互作用产生背散射电子信号来获取成分衬度图像，在多相组分、金属合金、复合薄膜样品观测时，经常出现画面明暗分布紊乱、同材质区域灰度不一致的现象，会干扰材料组分判断与元素分布定性分析。

扫描电镜腔体内部残留的有机碳氢化合物，在高能电子束照射下会发生分解沉积，在样品观察区域形成碳污染层，长期观测会逐步遮挡样品原始形貌。

扫描电镜依靠高能电子束扫描样品表面采集二次电子信号，对于绝缘样品，入射电子持续在表面积累，容易产生荷电效应，是扫描电镜成像过程中非常常见的成像缺陷，会直接干扰形貌观测与尺寸测量。