无掩膜光刻机在器件制造领域的主要用途

无掩膜光刻机面向各类微纳器件的样品试制与小批量生产，依托数字化直写曝光的能力，完成器件功能层、电极线路、阵列单元等精细图形的制备工作。

无掩膜光刻机在微纳结构加工中的实际用途

无掩膜光刻机作为数字化直写类微纳加工装备，摒弃传统工艺所依赖的实体掩模版，直接读取数字版图完成紫外曝光作业，在各类微纳结构的制备与工艺验证环节发挥十分关键的作用。

无掩膜光刻机凭借无掩模直写、高精度成型、灰度立体曝光、多层精密套刻的核心技术优势，在 MEMS 精密传感、高端微光学器件、微流控精密芯片等高端微纳制造领域拥有广泛且核心的用途。

无掩膜光刻机作为数字化柔性微纳加工核心装备，技术特征为无需实体掩模版即可实现高精度图形直写曝光，凭借迭代速度快、改版成本低、套刻精度高、多基底兼容能力强等优势。

无掩膜光刻机作为新一代数字化无模板微纳直写加工装备，摒弃了传统光刻工艺依赖实体掩模版的加工模式，依托数字光学调制、高精度运动扫描、智能图形校正等核心技术，具备图形可实时编辑、结构迭代速度快、多基底兼容、套刻精度高、小批量定制能力强等突出优势。

无掩膜光刻机是新一代数字化微纳精密加工设备，区别于传统接触式、掩模版式光刻设备，其核心技术特征为无需依托实体掩模版即可完成微纳图形直写曝光，摆脱了传统光刻工艺对掩模制版、存储、维护的依赖，是现阶段精密微结构研发、小批量定制化加工领域的核心核心装备。

无掩膜光刻机在无掩膜直写工艺用于微米乃至亚微米线条阵列、周期性光栅、高精度微结构加工时，经常出现整片基板范围内线条宽度波动、图形边缘毛刺、拐角位置圆化严重，显影之后得到的结构和原始设计版图偏差较大，难以满足高精度微纳加工指标。

无掩膜光刻依托数字微镜器件完成图形调制，配合精密工件台步进、扫描运动实现大面积图形直写，广泛用于微流控芯片、微纳光学元件、MEMS 器件、传感器结构制备。