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电子束光刻机的曝光质量，很大程度上取决于样品处理的规范性，样品处理不到位，会直接导致图形失真、精度下降、设备故障等问题，核心要点如下。

样品清洁是基础，必须彻底去除基片表面的灰尘、油污、水分和杂质。可用专用清洁试剂擦拭，必要时进行烘干处理，确保表面干燥洁净，避免杂质导致曝光缺陷、污染真空腔体。

非导电样品必须做导电处理，比如喷涂导电膜，防止电子束照射时表面电荷积累，导致图像发白、闪烁、边缘模糊，甚至损伤样品和探测器。导电膜厚度要均匀，避免过厚影响图形精度。

样品尺寸和厚度要符合设备要求，不可超出样品台承载范围，高度要适中，避免过高导致碰撞电子枪或影响电子束聚焦，过低则可能影响对准精度。

样品固定要牢固、平整，避免运行过程中出现松动、偏移，导致曝光位置偏差。固定时动作轻柔，不要挤压、损伤样品表面，尤其脆弱样品需做好防护。

涂胶工艺要规范，光刻胶涂覆要均匀，厚度控制合理，烘干温度和时间要精准，避免胶层气泡、开裂，否则会影响显影效果，导致线条不清晰、边缘粗糙。

样品处理完成后，需在洁净环境中快速装样，减少暴露在空气中的时间，避免再次污染，确保曝光质量稳定。